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真空烘烤除氣裝置

作者:華宇分(fen)公司時間:2022-12-23點擊:12143次

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該設備(bei)與大型微波源對接,可以完成微波在空間不(bu)同高度環境(jing)中相關實(shi)驗(yan)。可以實(shi)現某一(yi)高度、不(bu)同濕度、不(bu)同溫度下(xia)的環境(jing)模擬(ni)實(shi)驗(yan)。依據這套設備(bei)組建成了我國(guo)第一(yi)個(ge)HPM大氣等(deng)離子體(ti)實驗室。


產品參(can)數

序(xu)號

項目

技術(shu)參數

1

真(zhen)空容(rong)器尺寸(cun)

Φ1800mm×2700mm(L)

2

真空度(du)

1×105Pa~1×10-2 Pa

3

溫度范圍(wei)

熱沉溫度在-60℃~40℃范圍內可調,控制點(dian)

4

控制(zhi)精度(du)

±1

5

濕度(du)指標(biao)

在15℃~40℃范圍內,壓(ya)力從2000 Pa~大氣(qi)壓(ya),水蒸(zheng)汽在此(ci)壓(ya)力范圍內分壓(ya)控制精確優于±10%